Nanospheres SiO2 ar gyfer past dannedd
Enwau Eraill: Carbon gwyn du
MF: SiO2nH2O
Man Tarddiad: Fujian, China
Safon Gradd: Gradd Ddiwydiannol
Purdeb: 96
Ymddangosiad: powdr gwyn
Cais: past dannedd
Rhif Model: JS-185C3
Manylebau:
Dulliau Prawf | Priodweddau | Unedau | Gwerthoedd Targed (Terfynau Penodol) | Gwerthoedd Gwirioneddol |
HG / T3065-2008 | Colled ar sychu (2 awr, 105 ℃ ) 加热 减量 | % | Uchafswm.6.0 | 5.0 |
HG / T3066-2008 | Colled tanio 1000 ℃ 灼烧 减量 | % | Uchafswm.7.0 | 3.8 |
HG / T3072-2008 | Gwerth amsugno DBP DBP 吸收 值 | cm 3 / g | 2.4-2.9 | 2.65 |
HG / T3067-2008 | gwerth pH (ataliad dyfrllyd 10%) pH 值 | - | 6.0-8.0 | 6.81 |
HG / T3062-2008 | SiO 2 (Sail Sych) 二氧化硅 ( 干 基） | % | Munud.97 | 98.4 |
HG / T3073-1999 | Arwynebedd penodol BET BET 比 表面积 | m 2 / g | 180-220 | 195 |
Halen hydawdd (Na 2 SO 4 ) 可溶性 盐 | % | Uchafswm.1.0 | 0.3 | |
Cynnwys Fe 铁 含量 | ppm | Uchafswm.200 | 160 |
Mantais Silicon Deuocsid:
1. Mae priodweddau ffisegol a chemegol silica a ddefnyddir mewn past dannedd yn sefydlog, ac nid yw'n adweithio â chydrannau eraill o bast dannedd (fel fflworid, meddygaeth lysieuol Tsieineaidd, sbeisys, ac ati), felly mae ganddo'r cydnawsedd gorau.
2. Mae silica a ddefnyddir mewn past dannedd yn ychwanegyn bwyd diogel a diwenwyn ac yn gyffur sy'n cael ei ddefnyddio'n helaeth yn y byd. Oherwydd ei briodweddau ffisiocemegol sefydlog, ni fydd yn rhyngweithio â sudd gastrig a phoer dynol, felly mae ganddo'r diogelwch gorau.
Pecynnu: bag gwehyddu 10kg, bag crefft
Tagiau poblogaidd: nanospheres sio2 ar gyfer past dannedd China, ffatri, cyflenwyr, gweithgynhyrchwyr, prynu, wedi'u gwneud yn Tsieina, ShaXian Sanming
